EQP For the analysis of positive and negative ions, neutrals, and radicals from plasma processes

El EQP de Hiden Analytical combina un espectrómetro de masas y un analizador de energías para el estudio de los iones de plasma, neutros y radicales neutros.

Incluye modos de funcionamiento para análisis de iones positivos y negativos. Dispone de modos de ionización de umbral e ionización de unión de electrones para estudios detallados de radicales neutros, para el análisis de radiocales de plasma electroposibivos y electro-negativos.

El sistema EQP integra MCS: adquisición de datos escalares multicanal con resolución de tiempo de hasta 50 nanosegundos, lo que permite una rápida adquisición de datos en aplicaciones de plasa pulsado.

Descripción

Hiden Analytical logo

EQP – Análisis de iones posibivos, negativos, moléculas neutras y radicales.

Las sondas de plasma de Hiden miden algunos de los parámetros clave del plasma y proporcionan información detallada en relación con la química de la reacción del plasma.

La comprensión detallada de la cinética de la reacción de los iones de plasma y las espacies neutrales desempeña un papel clave en el desarrollo de procesos avanzados de ingeniería de superficies como el HIPIMS.

Características

  • Óptica de extracción de iones controlada por software para una perurbación mínima del plasma.
  • Analizador del sector electrostático a 45º, Scan Energy a incrementos de 0,05 eV/0,25eV FWHM.
  • Perturbación mínima de la trayectoria de vuelo iónico y la trnasmisicón constante de iones en todas las energías.
  • Triple filtro de bombeo diferencial.
  • Cuadrupolo, opciones de rango de masa a 5000 amu.
  • Detector de recuento de iones de impulsos de alta sensibilidad/estabilidad con rango dinámico de 7 décadas.
  • Ionizador integral ajustable para potencial de apariencia MS con opción de acoplamentio de electrones Penning Gauge y enclaves para proporcionar protección contra la sobrepresión. Selección de señal y opción de activación de serñal programable para estudios de resolución temporal en plasma pulsado.
  • Opción de 1000eV, opción flotante hasta 10keV, copa Faraday para plasmas de alta desnsidad.
  • Mu-Metal, opciones de blindaje radio-metal, opción de operación a alta presión.
  • Control Massoft a través de RS232, RS485 O Ethernet LAN.

Aplicaciones

  • Análisis de iones y radicales.
  • Etching/deposition studies.
  • ablación láser.
  • Análisis de gases resiguales (RGA).
  • Detección de fugas.
  • Acoplamiento de electrodo de plasma.

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