IMP-EPD For ion etch control and optimum process quality

El IMP-EPD de Hiden Analytical es un espectrómetro de masas de iones secundarios reforzado y bombeado diferencialmente para el análisis de iones secundarios en el proceso de grabado por haces de iones.

Descripción

Hiden Analytical logo

IMP-EPD – Sistema de detección de punto final en MBE para control de procesos.

El sistema incluye un software integrado con algoritmos específicos de proceso desarrollados para un control óptimo.

Probado para la producción de dispositivos de película delgada de alta especificación, para aplicaciones que incluyen películas delgadas magnéticas, superconductores de alta temperatura y semiconductores III-V.

Características

  • Alta sensibilidad SIMS /MS con detector de contador de iones de pulso.
  • Triple filtro cuadrupolar, rango de masa de 300 amu estándar.
  • Colector de bombeo diferencial con brida de montaje a la cámara de proceso.
  • Óptica de iones con analizador de enegía e ionizador integral.
  • Penning Gauge y enclavamientos como protección contra la sobrepresión.
  • Sistema de datos integrado con la herramienta de proceso.
  • Estabilidad (menos de ± 0.5% de variación de altura durante 24 h).
  • Control MASsoft a través de RS232, RS485 o Ethernet LAN.
  • DDE programable, E/S digital paralela, RS232 Scripting Communication.

Aplicaciones

  • Análisis de punto y final.
  • Determinación de impuraeza objetivo.
  • Control de calidad SPC
  • Potencial de plasma.
  • Análisis de gases residuales (RGA).
  • Detección de fugas.

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